光化学氧化技术处理印染废水研究进展 |
文件大小:0.11MB格式:pdf发布时间:2014-03-24浏览次数:次
【中文关键词】 | 光化学氧化处理工艺 UV/O3法 光助Fenton法 光催化氧化法   |
【摘要】 | 介绍了几种操作简单、效果较好的光化学氧化处理工艺:UV/O3法、光助Fenton法和光催化氧化法,探讨了该领域存在的问题、研究的热点与方向,并对光化学氧化工艺处理印染废水的前景进行了展望。 |
【部分正文预览】 |
印染行业是工业废水排放大户,印染厂每生产100 米织物,平均产生废水 3~5 m3,全国印染废水排放量约 300~400 万 m3/d。印染废水的典型特征是有机物浓度高、可生化性差、色度深、成分复杂,废水中含有染料、浆料、助剂、酸、碱、纤维杂质及无机盐等,染料中的硝基和胺基化合物及铜、铬、砷等重金属元素具有较大的生物毒性,属难降解有机废水[2-3],因而对印染废水的有效处理一直是工业废水治理的研究热点之一。
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