ISI/IMs共混型镶嵌荷电膜的研制 |
文件大小：0.17MB格式：pdf发布时间：2011-09-09浏览次数：次
| 【中文关键词】 | 镶嵌荷电膜 嵌段共聚物 共混 膜结构 膜性能 |
| 【摘要】 | 以嵌段共聚物ＩＳＩ和ＩＭｓ的共混物为原料，ＰＰ微孔膜为基膜制成了复合膜，再经过交联、季胺化和磺化而制成了一种新的共混型镶嵌荷电膜。 |
| 【部分正文预览】 | 以嵌段共聚物ＩＳＩ和ＩＭｓ的共混物为原料，ＰＰ微孔膜为基膜制成了复合膜，再经过交联、季胺化和磺化而制成了一种新的共混型镶嵌荷电膜．进一步的研究显示，该膜具有典型的镶嵌荷电膜结构及性能特点，与ＭｓＩＳＩＭｓ五嵌段荷电膜具有相似的膜形态与膜结构；电性能也十分相近，膜面电阻分别为３５０、９７０Ω·ｃｍ２，电压渗系数分别为８×１０－９、６．１×１０－９Ｖ／Ｐａ．表明可以用ＩＳＩ／ＩＭｓ共混物代替五嵌段共聚物ＭｓＩＳＩＭｓ来制备镶嵌荷电膜，该制备方法更具实用性． |
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