一种制备镶嵌荷电膜的新材料PISIP五嵌段共聚物的合成与表征 |
文件大小：0.22MB格式：pdf发布时间：2011-08-30浏览次数：次
| 【中文关键词】 | 五嵌段共聚物 阴离子聚合 镶嵌荷电膜 |
| 【摘要】 | 从分子设计出发，合成了一种用于制备镶嵌荷电膜的新材料：聚（４ 乙烯基吡啶—异戊二烯—苯乙烯—异戊二烯—４ 乙烯基吡啶）（ＰＩＳＩＰ）五嵌段共聚物，并用ＩＲ、ＮＭＲ、ＧＰＣ、ＤＳＣ等方法对共聚物结构进行了表征． |
| 【部分正文预览】 | 从分子设计出发，合成了一种用于制备镶嵌荷电膜的新材料：聚（４ 乙烯基吡啶—异戊二烯—苯乙烯—异戊二烯—４ 乙烯基吡啶）（ＰＩＳＩＰ）五嵌段共聚物，并用ＩＲ、ＮＭＲ、ＧＰＣ、ＤＳＣ等方法对共聚物结构进行了表征． |
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