一种制备镶嵌荷电膜的新材料MsISIMs五嵌段共聚物的合成与表征 |
文件大小:0.21MB格式:pdf发布时间:2011-08-25浏览次数:次
【中文关键词】 | 五嵌段共聚物 阴离子聚合 镶嵌荷电膜   |
【摘要】 | 从分子设计出发,合成了一种用于制备镶嵌荷电膜的新材料:聚(4-甲基苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯-异戊二烯-4-甲基苯乙烯)三元五嵌段共聚物(MsISIMs),并用FTIR,1H-NMR,GPC,DSC,TEM等对共聚产物进行了表征,证实了MsISIMs是制备镶嵌荷电膜的理想膜材料 |
【部分正文预览】 | 从分子设计出发,合成了一种用于制备镶嵌荷电膜的新材料:聚(4-甲基苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯-异戊二烯-4-甲基苯乙烯)三元五嵌段共聚物(MsISIMs),并用FTIR,1H-NMR,GPC,DSC,TEM等对共聚产物进行了表征,证实了MsISIMs是制备镶嵌荷电膜的理想膜材料 |
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